マスフローコントローラ
半導体製造において重要なCMPやエッチングなどの工程後に必要な洗浄プロセスでは、ウェハに変化や損傷を与えることなく、化学物質や粒子状の不純物を除去する必要があります。 洗浄プロセスを最適化するために、溶液中に含まれる化学物質の濃度を正確にモニタリングする製品を幅広く提供しています。
半導体製造の微細化に伴い、ウェハの表面状態をより高精度に管理したいというニーズが高まっています。独立設置型の薬液モニタリングシステム CS-1000は、吸光度・pH・導電率を組み合わせた独自の分析技術により、機能性薬液に含まれる特殊な微量成分を高精度に測定できます。
光ファイバ式非接触型薬液濃度モニタ CS-900Fは、非接触構造のため薬液漏れやコンタミネーションを防ぎ、安全性の向上や薬液使用量の削減に貢献します。 洗浄装置での試験結果では、接触式の従来製品（CS-600F）と同様のトレンドを示し、配管上に取り付ける非接触測定でも同等の性能が得られていることが確認できます。
Dissolved Oxygen Concentration Monitor Series for Semiconductor Manufacturing CS-620Fは、冷却不要で高濃度・高温リン酸濃度をリアルタイムに測定できます。 高温リン酸を使用する3D NAND製造工程におけるSiN層エッチングプロセスでの濃度管理に最適です。
半導体製造の洗浄工程で使用される希薄なHFやTMAHの溶存酸素濃度測定は、プロセスの歩留まりに影響するため非常に重要です。溶存酸素濃度モニタ HD-960LRは、1%以下のアンモニア水（常温）、沸点が水より高い有機溶媒などをモニタリングする高感度センサを搭載しています。
