堀場エステックの半導体プロセス関連の製品群はマスフローコントローラだけにとどまらず、プロセスチャンバ周辺で使用される流量、圧力、濃度、プラズマ等の測定、制御に用いられています。これらは、コンポーネントだけでなく、お客様にソリューションを提供するべく、モジュールやサブシステムでもご提案することができます。
半導体製造プロセスチャンバにおける計測・制御技術
クリーニングプロセスの終点検知
●セル温調機能搭載
最大180℃
●マルチガス対応
SiF4CF4/WF6NF3
●ドライクリーニング終点検知の最適化
●クリーニングガス・時間削減
●チャンバダメージ低減による部品の長寿命化
TungstenCVD装置チャンバクリーニング終点検知の例
プラズマ状態の分析・プロセス管理
●プラズマエッチングの終点検知
●プラズマ状態の管理
●プロセス条件の最適化
成膜プロセスのリアルタイムモニタリング
窒化膜成膜プロセスにおける膜質管理の例
チャンバ内のプラズマコンディションをリアルタイムでモニタリング
黒：膜質良好時のスペクトル
赤：膜質不良時のスペクトル
