MV-2000 Series

MV-2000 Series

液体材料気化システム

純水や液体材料を気化(ガス化)する気化システムです。トルネードフロー方式による高効率気化により、低温度での安定気化を実現。半導体プロセスで使用される"液体材料:High-k材料など"の安定気化システムとして最適なモデルです。キャリアガス制御用マスフローコントローラと液体材料の流量計測用マスフローメータのセットアップで、高効率な気化システムが完成します。

 

事業セグメント: Semiconductor
製品分類: Fluid Control
製造会社: HORIBA STEC, Co., Ltd.
  • トルネードフロー方式による安定気化 
    高効率気化方式により、低温度での安定気化を実現。
    熱分解しやすい液体材料においても気化性能が向上。
  • トルネードフロー方式による大流量気化
    高効率気化方式により、当社従来品と同じ温度条件で大流量気化が可能。
    同じフットプリントでの大流量化により、新たなレイアウト変更が不要です。
  • コンパクトな気化システムの構築が行え、理想的なレイアウトデザインが可能
  • RoHS指令対応
型式MV-2000
対応液種HCl, HFなどのステンレスを腐蝕する液体を除く
設定温度気化条件による(Control Valve : MAX.140℃ Vaporizer : MAX.200℃)
リーク規格1 × 10-8 Pa·m3/s (He) 以下
内部リーク規格1 × 10-6 Pa·m3/s (He) 以下
接ガス部材質SUS316L, PFA
使用温度センサ熱電対 Kタイプ(CA)
耐圧1MPa (G)
標準継手液体入口:1/8 VCRタイプMale, キャリアガス入口:1/4 VCRタイプFemale, ガス出口:1/2 VCRタイプMale
使用可能周囲温度15 ~ 50℃
オプション空圧弁(内部リーク規格: 1 × 10-9 Pa·m3/s (He) 以下)

 

  • 発生流量については、ご使用になる“液体材料”“発生量”“発生条件”等により違いが生じます。別途お打合せの上最適なモデルをご提案いたします。
  • 本体内部に加温ヒータ、温度センサ、スイッチを搭載しています。仕様については別途ご確認ください。
Process Control and In-situ Measurement for Photovoltaic Manufacturing Process
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Liquid Source Vaporization and Supply in Research and Testing Laboratories
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