レティクル／マスク異物検査装置 PD Xpadion

40年の歴史に磨かれたレーザー散乱方式検査技術を用いたフォトマスク異物検査装置です。

レティクル／マスク異物除去装置　RP-1

半導体露光プロセス、マスク製造工程での各種サンプルの異物検査、マスクブランクスの異物およびピンホール検査、レティクルの異物検査、ペリクル膜面の異物表裏判定機能などに対応しております。
異物検査装置と異物除去ユニットとの組み合わせが可能で、異物検査～異物除去まで一括処理ができます。
EFEM、OHT、マルチポートなどに対応し、自動化・省人化を支援します。

超薄型マスフローモジュール　CRITERION DZ-100 Series

新開発の制御バルブと流路構造最適化により、10mm幅の薄型構造を維持したまま、最大流量20SLMまでの流量制御を実現しました。これにより、ガスボックスの省スペース化やガスライン増設を容易にし、エッチングのみならずCVD・ALDなど大流量を要する成膜プロセスにも対応します。

フォトルミネッセンスマッピングシステム PLATO Series

パワーデバイス向けで注目されるSiC、GaNに加え、レーザーダイオード向けのInP、GaAsにも対応した欠陥検査装置です。
ピーク波長、ピーク強度、半値幅などの測定対象に加え、ウェハ反りや膜厚の自動マッピングも可能です。
最大12inchウェハまで対応し、大口径化に応えるラインナップを展開。さらに、量産ニーズに応える自動搬送対応仕様もご用意しています。
また、顕微PLにより数µmレベルの微小欠陥の測定・マッピングも可能で、量産・R&Dの両フェーズにおける品質向上に貢献します。

光ファイバー式 非接触型薬液濃度モニター CS-900F

洗浄やエッチングなど半導体製造工程で使用される薬液を“非接触”で連続測定します。
薬液漏れやコンタミネーションを防ぎ、安全性の向上や製造プロセスの最適化に貢献します。

現場形カルシウムイオン計 HC-200CA

半導体工場のフッ酸排水処理プロセスにおいて、カルシウムイオン濃度を連続測定することで、フッ素除去に用いられるカルシウム系薬品の使用量最適化に貢献します。
これにより、処理効率の向上や運用コスト削減にも寄与します。