電子デバイス産業クリーンルーム内の分子状汚染物質監視
半導体・TV・通信機器などの電子デバイス産業では、クリーンルーム内での分子状汚染物質（AMC*）が製品や製造装置の性能に影響を与え、生産品質不良の原因となります。
*AMC=Airborne Molecular Contamination
課題
- 手分析によるコスト・スキル・時間がかかる
- ケミカルフィルタの適当な交換時期が知りたい
- 電子部品の金型の腐食
- 製造装置のレンズミラー曇り
- 酸化膜耐圧性の低下
- エッチング不良
- 薄膜の成長不良（結晶中の欠陥発生）
HORIBAのAMCモニタリングシステムで汚染状況の見える化と管理コスト削減を実現
HORIBAのAMCモニタリングシステムは、自動測定により汚染濃度のトレンド監視やケミカルフィルタの維持管理をサポートし、従来の手分析による測定を補完し、お客様の課題解決に貢献しています。またの室外大気の測定を組み合わせることにより、より包括的な計測ソリューションを提案できます。
特長
- 安定した自動連続測定
汚染トレンドの監視により、製品、周辺機器などの不良原因やケミカルフィルタの交換時期を推定 - 簡単操作
特殊なスキルは不要。管理コスト、時間、人件費を削減 - ご要望に合わせたシステムアップが可能
ラインセレクタによる多点測定や台車での可搬式タイプの対応など（オプション） - クリーンルーム内だけでなく、外気の大気計測もトータルにサポート
運用事例
- クリーンルーム内、または循環空気中の分子状汚染物質（AMC）の測定
- 一部の装置周辺などスポットにおける重点測定
- 交通量上昇に伴う、窒素酸化物濃度の上昇などの特定イベントを検知（屋外大気）
時間分解能の向上 連続データを得られることで、AMCの早期発見に貢献！
- 週一回の手分析では捉えきれない測定間の変動を細やかにキャッチします。
空間分解能の向上 多点測定により、AMCの発生源を推定！
- ライン切替により1台で10点以上の複数箇所を測定できるため、特に大規模Fabでより効果を発揮します。
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窒素酸化物（NOx）濃度測定装置 APNA-370
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