半導体製造プロセスにおける洗浄工程で用いられる薬液の濃度管理だけでなく、先端材料の研究開発、排水設備などを含むファシリティまで幅広く液体計測ソリューションを提供しています。
※「ウーブン」とは、「織物」をイメージしています。HORIBAでは、半導体製造プロセスを横糸、その工程ごとに存在する関連材料市場を縦糸とし、ファシリティも含めて複合化したバリューチェーン全体を織物に例えて「ウーブンバリューチェーン」と表現しています。
洗浄プロセスではウェハ表面や基板に変化や損傷を与えることなく、化学物質や粒子の不純物を除去する必要があります。洗浄プロセスの最適化のために、溶液に含まれる化学物質の濃度を正確にモニタリングする製品を幅広く提供しています。
薬液濃度（最大8成分）、導電率、pHという薬液管理における主要3項目を測定可能な薬液モニタリングシステムCS-1000は、機能性薬液などの添加剤や微量成分を含む多成分で構成される半導体材料の品質管理や研究開発に貢献します。
フッ酸排水処理プロセスにおいて、フッ化物イオン濃度およびカルシウムイオン濃度をモニタリングすることで、排水の処理状況を適切に把握でき、フッ素除去に用いられるカルシウム系薬品の使用量最適化に貢献します。これにより、処理効率の向上や運用コスト削減にも寄与します。
半導体製造プロセス向け「薬液濃度モニタCSシリーズ」は発売から27年目を迎えた2022年に、累計販売台数20,000台に到達。現在もお客様が求める精度・測定レンジ・成分数・設置バリエーションといったニーズに合わせて製品ラインアップを拡張しています。
※市場シェアは当社推定値。（2025年）
薬液濃度モニタCSシリーズの一部を堀場エステックが京都福知山に新たに建設中の生産工場にて生産予定。長期的な安定供給体制を確立するとともに、水素発電を用いた再生可能エネルギーシステムの導入など、工場全体での省エネをめざします。
新工場の完成イメージ（外観）
