半導體製造工廠需要安全穩定地供應高品質的氣體和化學品。

特別是，CVD 和 Diff 等半導體製造製程會使用大量的各種沉積材料（例如 TEOS、TiCl4、TEB、HCDS、TMA 等）。 HORIBA 的 LU 系列液體自動補給系​​統利用大容量儲罐和製程儲罐，能夠持續供應液體並管理剩餘量，從而確保半導體工廠的穩定運作。