光學發射光譜

       發射光譜 (OES) 是一種非常靈活的方法，可測量等離子體發射的特定發射線的振幅或振幅比變化。由於 OES 是等離子體蝕刻和沈積監控的豐富即時資訊來源，因此半導體產業多年來一直使用 OES。除了終端監測之外，OES 還用於透過等離子體製程光譜匹配進行詳細診斷，例如工具波動、工具之間的變化以及例行Chamber維護或維修後的工具/製程變化。

根據不同應用，HORIBA 提供各種 OES 光譜儀和高級製程控制解決方案包，以滿足最終用戶或工具製造商的需求。
 

	VS70	EV2.0	EV-140C	OES-Star	M116	VU90
Spectral range	200-910nm	200-1050nm	200-800nm	200-1050nm	185-1050nm	115-320nm
Resolution	< 2 nm	< 2 nm	< 2 nm	< 1 nm	< 1.3 nm	< 0.75 nm
Optical Coupling to the chamber	Optical Fiber	DN25 Flange or Optical Fiber	Optical Fiber	Optical Fiber	Optical Fiber	Direct
Communication with the tool	Ethernet EtherCAD USB	TCPIP	TCPIP	USB	USB	USB
Software	LabView	SigmaP	SigmaP	LabView	LabView	LabView