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光致發光

光致發光

光致發光光譜(PL)是一種用於表徵半導體材料的強大光學方法。 PL 是根據在樣品上照射光:吸收光後創造電子-電洞對:電子從價帶躍遷到導帶,留下電洞。複合時發射的光子對應於價帶和導帶之間的能量差,因此能量低於激發光子。 PL 可用於尋找:

  • Optical and Electronic properties
  • Trace elements/dopants
  • Band Gap
  • Stress
  • Defects/impurities
  • Variation in material composition
  • Wafer uniformity assessment

HORIBA Scientific 是光譜學領域的世界領導者,擁有 50 多年的技術創新優勢。 PL 表徵可讓您深入了解半導體材料的特性,例如 IV 族半導體、化合物半導體、2D 材料及其裝置。

 
 LabRAM SoleilLabRAM Odyssey SemiconductorSMS
Wavelength range300-1600 nm200 nm-2200 nm250 – 14000 nm
LasersUp to 4 built in fully motorized and computer controlledUp to 6 fully motorizedUp to 3, semi-motorized
Sample size acceptance8”12”12”
DetectorOpen Electrode CCD, optional EMCCD, optional InGaAs arrays detector (max. 2 detectors).Open Electrode CCD, optical EMCCD, optical inGaAs arrays detector (max. 3 detectoers).CCD, IGA and sigle channel

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