薄膜在新材料的開發階段非常重要，可以最大限度地縮短新一代元件的上市時間，而且在計量步驟中也很重要，這對於提高生產線的產量以最大限度地減少晶圓間的差異是必需的。 HORIBA 是深紫外線到 XRF 光譜領域的領導者，提供一系列獨特的材料和薄膜分析高端工具，可用於研發、線上或整合在製程中。
主要優點：
Spectroscopic Ellipsometer from FUV to NIR: 190 to 2100 nm
In-situ spectroscopic ellipsometer for real-time thin film monitoring
Spectroscopic Ellipsometer for Simple Thin Film Measurement
AFM-Raman for Physical and Chemical imaging
AFM-Raman for physical and chemical imaging
即時雷射測量監控系統
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