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流體控制

用於即時、高精度測量和控制流體質量流量的技術

氣體和液體等流體在半導體裝置、液晶顯示器、LED 和太陽能電池等眾多行業的製造過程中都至關重要。特別是在尖端裝置的製造過程中,對各種特性流體進行精確的測量、控制和分析,對生產效率和產品品質有顯著的影響。 HORIBA 將持續發展 HORIBA STEC 自 1974 年成立以來累積的流體測量和控制技術,並支援各工業領域提高生產效率和品質保證。

流體測量與控制

利用熱壓和差壓等測量原理,Criterion 可以高精度地測量從腐蝕性氣體到超高純度液體的各種流體。

液體汽化

根據液體材料的性質和成分、應用和設備設計,選擇最佳的汽化方法,即可實現穩定的供應。

真空測量

作為隔膜真空計,VG 可確保穩定的壓力測量和可重複性,有助於製程優化、提高設備正常運作時間和提高產量。

四極質譜儀

QL的尺寸設計使其安裝更節省空間。透過對真空室殘餘氣體的分析,有助於製程條件管理,並可用作製程監控器。

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