HORIBA
Search English
Corporate China
  • Products by Process
    • 清洗
    • 沉积
      • Fluid Controller & Module
    • 光刻
      • 颗粒检测
      • 清洗
      • 材料分析
    • 蚀刻
    • 材料表征
    • 化学机械研磨(CMP)
    • 厂务
      • 超纯水
      • 气体排放
      • 洁净室解决方案
      • 回收
      • 废水处理
  • 应用
  • 产品
    • 流体控制
      • 质量流量控制
      • 气体发生器系统
    • 液体源汽化系统
    • 压力控制
    • 气体监测仪
    • 流体控制系统
    • 等离子体分析
    • 薄膜生长监控
    • 颗粒检测系统
    • 化学药液浓度计
    • Particle Analysis
    • Surface Analysis
    • 薄膜分析
    • Defect / Impurity Monitoring
    • Emission Analysis
    • Facilities
      • Ultra Pure Water
      • Exhaust Gas
      • Clean Room Solutions
      • Waste Water Treatment
  • 先进材料
    • FPD 制程
    • 光纤
    • 光伏制造工艺
      • 晶体硅
      • 薄膜硅
      • 合成 CIGS
      • 有机染料敏化
    • 纳米技术
    • 超导体
  • 工业
    • Ceramic Capacitor
    • 生物制程
    • 环境
    • 食品 & 饮料
    • 冷冻干燥
    • 燃料电池
    • 工业炉
    • 试验气体生成
    • 真空镀膜
  • 实验分析
  • 联系
    • 联系我们
  • Sitemap

联系 open open
  • 联系我们
    联系 » 联系我们

Contact

个人联系信息

您感兴趣的产品是

  • 产品
    • 全部产品
    • 汽车
    • 医疗
    • 过程与环境
    • 科学仪器
    • 半导体
  • 应用
    • 饮用水处理监测
    • 汽车制造
    • 半导体制程
    • 研究所及分析测试中心
  • 技术
    • 辉光放电光谱
    • 压力流量计
    • 四级质谱
    • 拉曼光谱
  • 服务
    • 现场支持
    • 备件和易耗品
  • 企业
    • 新闻
    • 活动
    • 招聘
    • 历史
    • 企业文化
  • 联系
    • 招聘联系
    • 联系表
    • 全球分公司
    • 投资者关系

条款和条件 隐私声明 Cookie