Semiconductor Page Heading

真空镀膜

Vacuum Coating

HORIBA 作为气体和液体质量流量控制器制造商之一,拥有一系列模拟、数字和高温质量流量控制器以及使用点液态源汽化控制和输送系统。

HORIBA 可为镀膜行业产线提供关键控制,例如化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和金刚石层或金刚石层镀膜(DLC),为业务成功保驾护航。我司提供全面的流体控制和工艺监控服务,提高产量、合格率,提升镀膜工艺的价值。

HORIBA 的紧凑型四极质谱仪,与传统大型系统相比,可在更高压力(1 Pa)下工作。这减少了对额外泵设备的需求。

相关产品

MICROPOLE 系统
MICROPOLE 系统

紧凑型工艺气体监测仪

RU-1000
RU-1000

等离子体发射控制器

SEC-E 系列
SEC-E 系列

质量流量控制器

SEC-N100 系列
SEC-N100 系列

数字式质量流量控制器

VG 系列
VG 系列

电容压力计

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。

* 这些字段为必填项。

Corporate