真空镀膜

HORIBA 作为气体和液体质量流量控制器制造商之一,拥有一系列模拟、数字和高温质量流量控制器以及使用点液态源汽化控制和输送系统。

HORIBA 可为镀膜行业产线提供关键控制,例如化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、金属有机物化学气相沉积(MOCVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和金刚石层或金刚石层镀膜(DLC),为业务成功保驾护航。我司提供全面的流体控制和工艺监控服务,提高产量、合格率,提升镀膜工艺的价值。

HORIBA 的紧凑型四极质谱仪,与传统大型系统相比,可在更高压力(1 Pa)下工作。这减少了对额外泵设备的需求。

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