IR-200

Gas Monitor for Chamber Cleaning End Point Monitoring IR-200

用于腔室清洗终点监测的气体监测仪

IR-200 实时监测四氟化硅(SiF4)气体浓度,并根据 SiF4 气体浓度确定清洗终点。

事业部: 半导体
产品分类: 干法制程控制
制造商: HORIBA, Ltd.
  • 监测高达 5000 ppm 的 SiF4 浓度
  • 紧凑设计
  • 可安装至排气管路
  • 除 SiF4 外,该气体监测仪还可用于测量 CIF3 和其他气体。
Model nameIR-200
Measurement GasSiF4 gas
Measurement Range0 to 5000ppm(0 to 500Pa)
Repeatability

±1%F.S.

Cell length30mm, 1.2 in
Response Time30 seconds or less (T90)
Pressure Resistance0.3MPa(A)
Gas Cell Heating Temperature150 ℃ (Max)
Contact MaterialSUS-316L、BaF2、FKM
Leak Rate1×10-10Pa・m3/s
FittingNW25 Flange
Analog Output4 to 20 mA DC
Contact Output3 channels (ERR、High、Low)
Contact Input1 channel for zero calibration
Power24 V DC, 30 W (Max)
Dimension (W x H X D)

Sensor: 150×268×90mm / 3.5x5.9x10.6 in

Controller: 48×96×130mm / 1.9x3.8x5.1 in

Mass

Sensor:4.5kg / 9.9 lb

Controller:0.5kg / 1.1 lb

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