HORIBA 光谱技术仪，依托精密光谱分析能力，实现了高精度表面分析。

辉光放电发射光谱（GD-OES）是一种适用于镀层、热处理、气相沉积及溅射等多种表面处理样品的快速深度剖面分析方法。该方法对于评估化合物半导体的多层薄膜结构尤为有效。

拉曼光谱技术广泛应用于半导体领域的晶体结构与应力分析。该技术能够以高分辨率采集光谱数据，精准辨识材料微观差异。