Search
English
Corporate
產品
質量流量控制器和模組
質量流量控制器
液體汽化系統
汽化原理
壓力控制
真空和氣體監測
真空計
自動化晶圓檢測系統
混合應用系統
等離子監視器和控制器
工廠排放氣體分析儀
非接觸式溫度測量
顆粒檢測
化學監測
粒徑分析
表面分析
薄膜分析
缺陷/雜質監測
排放分析
液體到氣體
半導體
Material Characterization
陰極發光
深層分析
奈米拉曼
拉曼光譜儀
光致發光
UV-Vis Fluorescence
氣體分析
清洗
沉積
質量流量控制器和模組
數位質量流量控制器
質量流量模組
通用質量流量控制器
紅外線測溫儀
液體質量流量計
液體自動補充系統
質量流量控制器
質量流量模組
光譜橢偏儀
製程監控器和控制器
光學發射光譜
液體蒸發器
光刻
顆粒檢測
光罩清潔
光罩儲存
材料分析
蝕刻
化學研磨 (CMP)
廠務
自供電發電機
Recycle
潔淨室解決方案
洗滌塔
Bulk Supply (Liquefied Gas Storage)
氣體/液體鋼瓶室
POU減排
超純水
Organic Wastewater Treatment Facility
無機廢水處理
雷射氣體分析儀
技術
流體控制
紅外線測量
液體測量
光譜分析
顆粒測量
工業
平面顯示器製程
光電製程
多晶矽
薄膜矽
合成CIGS
有機染料
陶瓷電容器
真空鍍膜
鑽石 (MPCVD)
可用於鑽石 MPCVD 的 MFC
光纖
發泡系統
汽化系統
加熱系統
其他產業
氣體分析儀
Bio Process
電導率儀
質量流量控制器
排氣壓力控制器
溶氧儀
酸鹼度計
環境
食品業
冷凍乾燥
燃料電池
鍋爐
氣體測試
超導體
奈米技術
聯絡我們
聯絡我們
聯絡 HORIBA Japan
America
Europe/Middle East/Africa
Asia Pacific
Japan
Country / Region
Change
聯絡我們
找到我們
Explore the future
HORIBA
»
半導體
詳細資訊
Oops, an error occurred! Code: 202606082039177a77a4b9
聯絡我們
Corporate