PLATO 系列全自动光致发光成像系统

全自动光致发光成像系统

PLATO-LED

全自动光致发光成像系统

一般规格

测量项目：峰值波长、峰值强度、积分强度、半峰宽（FWHM）、AlGaN 层中铝含量

厚度测量：GaN 层薄膜厚度

弯曲度测量（可选）

符合 SEMI 标准的晶圆：2”、3”、4”、150mm、200mm

符合 SEMI 标准的 300mm 晶圆（可选）

可选激光波长：213nm、266nm、325nm、375nm、405nm、532nm、980nm、1064nm 等

自动对焦功能，可在不修改测量配置的情况下测量不同厚度的晶圆

支持 Excel、CSV 导出，格式灵活

兼容 SECS/GEM、MES

最受欢迎的光致发光（PL）成像系统，全球销量超过 250 台（覆盖 9 个国家、63 位客户）

Automatic Photoluminescence Mapping System

Automatic Photoluminescence Mapping System

Light source	UV	213nm, 266nm, 325nm
	VIS	375nm, 405nm, 532nm
	NIR	980nm, 1064nm
Measurement Item	DBR Measurement	Visible range, NIR range
Measurement Item	Bow Measurement	10~1000um
Laser Marking	CE-CoC, CE-DoC, KCs, S-Mark	Sapphire, Si, GaAs
Wafer Transfer	Robot type	Single-arm, Dual-arm
	Robot type	Cassette mapping sensor
	Wafer size	SEMI standard 2”, 3”, 4”, 6”, 8”, 12”
	Cassette type	Open Cassette, SMIF, FOUP
	Identification	Wafer ID reader, Cassette ID reader
Certification	CE-CoC, CE-DoC, KCs, S-Mark
Etc.	SECS/GEM

PLATO 系列