等离子体发射控制

HORIBA 等离子体发射控制器为反应溅射过程（PVD）提供出色的等离子体控制。

反应溅射过程中对反应气流的快速反馈控制有助于提高产品质量和生产率。这一点通过监测溅射过程中产生的等离子体和电源电压来实现。

HORIBA 等离子体发射控制器可通过控制过渡区和优化分布加快沉积过程。