等离子体监测仪

使用等离子体的制程需要等离子体监测仪。

等离子体监测仪用于监控半导体制程中的等离子体发射，例如蚀刻和溅射。

HORIBA 为等离子体工艺提供两个现场实时等离子体监测仪：

• 光发射光谱学蚀刻终点监测仪可以准确、重复地发出等离子体蚀刻终点的信号。
• 实时干涉工艺监测仪可在蚀刻和镀膜工艺中对膜厚和蚀刻沟槽深度以及蚀刻和沉积速率进行高精度检测。