【無料オンラインセミナー】SEMICON JAPAN直前企画！半導体微細化を支える　ウェットプロセスに適した分析とオンライン計測技術

【開催日時】

2023年12月8日(金) 15:00～15:45

半導体の微細化、積層化に伴い、製造プロセス数も増え、各プロセスに適したウエット洗浄の重要性が高まっています。
また、プロセスの最適化やコンタミリスクの削減だけではなく、製造コスト削減や環境負荷低減の観点からも、薬液の計測需要が拡大しています。
弊社の有する半導体プロセス管理に欠かせない分析要素、計測技術をご紹介させていただき、より効果的な活用についてこれまでの事例と併せて分かり易くご紹介します。

・お申込みURL
https://pages.horiba.com/HAT-WB-202312-SEMI_1-1.html