半導体ファシリティ

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超純水

不純物を極限まで減らし、限りなくH2Oに近づけた高純度の水。超純水は、半導体デバイスやFDP(フラットパネルディスプレイ)の洗浄工程、発電用タービンの蒸気発生器など、様々な用途に利用されています。そして、この超純水は、脱塩やイオン交換、複数の膜処理など、多くの工程を経て製造されます。HORIBAでは、超純水の製造や純度管理に必要となる高精度な計測器をご用意しています。

関連アプリケーション一覧

関連製品一覧

現場測定設置 H-1シリーズ

  • 形式
  • 仕様
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  • HR-2004線式、水流ビーズ式

パネルマウント 48/96シリーズ

  • 形式
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半導体用パネルマウント 48/96 シリーズ

  • 形式
  • 測定範囲
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  • HD-960L0-20mg/L
    ※低流量モデル(薬液を排出させる場合)

無補充式pH/ORP電極

高感度シリカモニタ


工場排水

半導体生産プロセスの中では水が使用され、使用された水は工場から排出されます。そして、半導体工場からの排水は、河川・湖沼・海水等の水環境に大きな影響を与えるため、適切な処理・管理が必要です。また、その排水は有機系排水と無機系排水があり、それぞれ処理方法は異なります。HORIBAは多様な排水に対応できる計測器、センサのラインアップで排水処理に貢献します。

関連アプリケーション一覧

関連製品一覧

現場測定設置 H-1シリーズ

  • 形式
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パネルマウント 48/96シリーズ

  • 形式
  • 仕様
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無補充式セルフクリーニングpH電極

コンパクトカルシウムイオンメータ

コンパクトフッ化物イオンメータ

自動校正機能付pH計

超音波式汚泥界面計

全有機体炭素測定装置

HORIBAグループ企業情報