半導体工場でのフッ酸を含む排水は、フッ素を除去するためにカルシウム系薬品を投入しフッ化カルシウムとして凝集させ、沈殿により除去を行います。この時、水質の変動に対応して十分にフッ素濃度を下げるためにはカルシウム系薬品を余剰に投入することが一般的でした。しかし余剰な投入は、薬品コストの増大だけでなく汚泥の増加やスケールによる設備メンテナンスの増大などの問題を引き起こしていました。
・処理後の余剰なカルシウムイオン濃度の連続測定ができない
従来は連続測定が可能なカルシウムイオン計がなく、フッ素濃度に応じた薬品投入を行ってもそれが適切な量であるかを連続監視する方法がありませんでした。HORIBAのカルシウムイオン計は沈殿槽でのカルシウムイオン濃度を連続監視することで、最適な薬品投入量を導き出す指標をご提供します。
現場形カルシウムイオン計
