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PD10-EX Brochure
PD10-EX
光掩模检测系统
用一台设备完成颗粒检测与去除，以提升半导体制造工艺的效率并改善良率
自 1984 年推出以来，作为半导体光刻工艺不可或缺的颗粒检测系统，PD 系列一直根据客户需求不断演进，今年迎来了其问世 的40 周年。
新产品“PD10-EX”基于广受欢迎的传统型号“PD10”，并配备了颗粒去除功能，能够用一台设备完成检测和去除。
此外，我们开发了支持自动光掩模传输的自有单元，有助于提高半导体制造工艺的效率并提升良率。半导体行业的分析、测量与控制需求正以前所未有的速度发生变化，变得更加复杂多样。我们正在扩展 PD10-EX 的功能，使其能够一站式完成颗粒成分分析与保护膜 ※1 厚度测量，并将在未来继续呈现新的可能性。
1. 通过将颗粒检测与去除工序集成，提高工作效率和良率
我们的光掩模颗粒去除装置 “RP-1”的颗粒去除率超过 95% ※2 ，其功能现已整合至“PD10”中，这使得颗粒的自动检测和去除可以实现。它还配备了一个多端口，可同时放置装有光掩模的两个盒子，从而实现连续的颗粒检测和去除。
2. 通过与自动搬运设备联动，推进制造过程的自动化和节省人力
我们开发了用于半导体制造工厂的自有 EFEM（设备前端模块：在 OHT ※3 与需要与 OHT 系统接口的颗粒检测系统之间传送光掩模的单元）。我们能灵活响应客户规格，助力实现自动化与节省人力——这对于提高生产率、缓解人手短缺并优化制造场所至关重要。
※1 防尘膜，用于防止颗粒附着在光罩/掩膜的图案面上
※2 结果来自对附着在玻璃表面的 5μm 玻璃珠进行的内部测试。效果可能因使用方式和条件而异。
※3 天车搬运系统：一种自动运输装置，将被运输物体悬挂保持并在安装于天花板的轨道上运行