RP-1

Reticle/Mask Particle Remover RP-1

光罩/掩膜颗粒去除设备

RP-1 通过空气(或 N2)和真空抽吸自动去除光罩/掩膜上的颗粒。在光刻工艺前定期去除颗粒可延长薄膜的更换周期和掩膜的清洗周期,从而降低运行成本。

事业部: 半导体
产品分类: 计量学
制造商: HORIBA, Ltd.
  • 减少操作人员的日常工作,防止人为损坏薄膜
  • 消除人工操作,防止静电放电损坏
  • 在光罩存储设备中存储掩膜的前后去除颗粒,可以延长掩膜寿命

 

  
           

  • 结合 PR-PD 系列光罩/掩膜颗粒检测系统,可确认去除颗粒后光罩/掩膜的状态。
Applicable caseNikon/Canon/SMIF POD/HORIBA
ThroughputSimultaneously blows the glass and pellicle surfaces to remove particles approximately for 1 min.
Dimensions1190(D) x 1150(W) x 1520(H)mm

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。 * 这些字段为必填项。

Related products

PD Xpadion
More PD Xpadion

Reticle / Mask Particle Detection System

PR-PD3 Pro
More PR-PD3 Pro

Reticle / Mask Inspection System

RP-1
More RP-1

光罩/掩膜颗粒去除设备

Corporate