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  • Readout No. E55 - 2021 Masao Horiba Awards - Spectroscopic analysis and measurement technology in the life science field
  • Readout No. E54 - Microplastics and Nanoplastics: Analysis and Method Development
  • Masao Horiba Awards Research Articles
  • Readout No. E53 - 2019 Masao Horiba Awards - Advanced Analytical and Measurement Technologies for Efficient Control System to Maximize the Performance of Electric Power and Batteries Usage
  • Readout No. E52 - Green Innovation for Marine Shipping Industry
  • Readout No. E51 - 2018 Masao Horiba Awards Advanced analytical and measurement technologies in semiconductor manufacturing processes
  • Readout No. E50 - Low-Carbon Society and Environmental Improvement
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  • Readout No. E11 - The Second Masao Horiba Awards
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  • Readout No. E09 - The First Dr.Masao Horiba's Award and the 50th Anniversary Products
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  • Readout No. E06 - 50th Anniversary of HORIBA, Ltd. Products and Technology of HORIBA Group
  • Readout No. E05 - Semiconductor Instruments
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    企业 » HORIBA全球 » Readout No. E58 - Analysis and Measurement Technologies that Contribute to the Development of Next Generation Semiconductor Devices 

Analysis and Measurement Technologies that Contribute to the Development of Next Generation Semiconductor Devices

Technical Journal "Readout"

Readout

READOUT is a technical journal issued by HORIBA. The name "READOUT" represents our sincere desire - helping readers understand the company's proprietary products and technologies by offering information about them. Since its first issue in July 1990, the journal has been published biannually.

Readout No. E58

Analysis and Measurement Technologies that Contribute to the Development of Next Generation Semiconductor Devices
2023 Masao Horiba Awards

Total Booklet

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34.23 MB
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Readout No.E58 Analysis and Measurement Technologies that Contribute to the Development of Next Generation Semiconductor Devices
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Each Article

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2.29 MB
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Analytical Instruments in Semiconductor Development
Dale A. POOLE Jr
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3.19 MB
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2023 Masao Horiba Awards Award Details Screening Committee’s Comments
SOMEYA Takao
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3.54 MB
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Feature Article: Exploring Optoelectronic Properties of Ultrawide Bandgap Semiconductors and Deep-Ultraviolet Spectroscopy
ISHII Ryota
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3.28 MB
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Feature Article: Nanoscale Chemical Characterization of Novel Semiconductor Materials using Tip-Enhanced Optical Spectroscopy
Naresh KUMAR
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6.61 MB
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Feature Article: Unraveling the Correlation Between Raman and Photoluminescence in Monolayer MoS2 Through Machine Learning Models
Ang-Yu LU
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5.78 MB
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Feature Article: Deep Learning Processors Based on Si Photonic Circuits
TAKENAKA Mitsuru
open
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1.7 MB
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Feature Article: Development of a Compact Deep-Ultraviolet Laser Source for Precision Microstructure Measurement
KUSHIMOTO Maki
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1.8 MB
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Review: Optical Smart Sensing
Ramdane BENFERHAT
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1.36 MB
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Feature Article: Raman Microscopy Applied to the Development and Characterization of Next Generation Cutting-Edge Semiconductor Devices
Fran ADAR
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2.66 MB
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Feature Article: Characterization Methods Shaping the Future of 2D Materials in the Semiconductor Industry
Marc CHAIGNEAU
open
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1.22 MB
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Feature Article: Application of HORIBA Instrument in Chemical Mechanical Planarization (CMP) : A Focus on Slurry Analysis and Optimization Strategies
Wan-Hsin HUANG (Ivy), Kevin SHEN
open
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5.29 MB
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Product Introduction: Introduction of Reticle/Mask Particle Detection Integrated System
DEJIMA Yutaka, SOMEYA Shota
open
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3.69 MB
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Product Introduction: Development of a Laser Gas Analyzer for Semiconductor Etching Process using IRLAM Technology
SAKAGUCHI Yuhei, HADA Miyako
open
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