
プロセスガス計測機器
HORIBAのプロセスガス計測機器は、国内防爆認証規格に適合する防爆形分析計をはじめ、サンプリングシステム設計など応用技術とともに各種プロセス計測に対応します。電力、鉄鋼、石油化学、石油精製、製紙、食品、医薬など幅広いフィールドで使用されています。
使用用途をお選びいただくと、該当製品ラインアップをご覧いただけます。
防爆形
石油精製/化学プラントなど、可燃性ガス・粉じんと酸素が混じり、爆発性雰囲気となる恐れのある地域に対し、国内防爆認証規格に適合する防爆形分析計を提供しています。各種プロセス監視に使用できます。
防爆形プロセス用赤外線ガス分析計 TIA-51d/p
試料ガス中の測定対象となるガスの濃度変化を、非分散形赤外線吸収方式(NDIR)により連続測定する分析計です。EIA-51d/pよりも高精度の測定が可能です。
防爆形プロセス用熱伝導式水素分析計 TCA-51d/p
気体の熱伝導率の差を利用して、主に水素濃度を測定する分析計です。石油精製プラント、水素精製プラント、化学工業など、幅広い産業分野で使用できます。
防爆形プロセス用磁気圧力式酸素分析計 MPA-51d/p
酸素が持つ極めて強い常磁性を利用した分析計です。サンプルガスが検出部と接触しないため、汚れなどによるドリフトが起こりにくく、長期安定性に優れています。
高純度ガス計測
産業・医療用ガス製造などにおいて、品質管理のため、純度や不純物の測定が重要です。
微量ガス分析計 GA-370
水素製造プラント、空気分離プラント、半導体製造ラインなど、ガス製造設備の品質管理として、微量不純物(CO, CO2, CH4)をppbレベルで超高感度、高精度に常時連続モニタリング可能な装置です。
アンモニア(NH3)濃度測定装置 APNA-370/CU-2
酸化触媒処理後の増加窒素酸化物(NOx)成分をアンモニア(NH3)濃度として化学発光法(CLD)により測定する装置です。最小検出感度5 ppb(2σ, 2 ppmレンジ)での連続測定が可能です。
マルチガス分析計 VA-5000/VA-5000WM シリーズ
環境問題から新エネルギー開発支援まで、時代のニーズに幅広く対応する分析計です。コンパクト設計により、1台で最大4成分の測定が可能です。
排煙脱硫/脱硝プロセス
発電所などに設置される排煙脱硝/脱硫設備の効率監視のため、二酸化硫黄(SO2)やアンモニア(NH3)などの測定が必要です。
煙道排ガス分析装置 ENDA-C9000シリーズ
脱硝装置出口の残留アンモニア(NH3)濃度を連続測定する煙道排ガス分析計です。脱硝触媒の劣化監視、NH3の注入量制御、硫安結晶物の生成防止など、設備の監視・コントロールに活用できます。
煙道排ガス分析装置 ENDA-5000シリーズ
煙道排ガス中の最大5成分(NOx/SO2/CO/CO2/O2)を1台で同時測定が可能な装置です。脱硝装置入口の窒素酸化物(NOx)監視や、脱硝装置の出入口の二酸化硫黄(SO2), 酸素(O2)監視など発電所などに導入されている排ガス処理総理のプロセスコントロール用装置として使用できます。
燃焼、酸素濃度監視
各工場・施設の燃焼プロセスの効率化のため、酸素濃度などの監視が重要です。
浸炭炉/ 浸炭窒化炉ガス
鋼材の強度を調整するため、ガス浸炭炉、ガス浸炭窒化炉内で表面に炭素を拡散浸透させる工程(浸炭処理)において、炉内雰囲気のCP(カーボンポテンシャル)制御・監視は不可欠です。
浸炭炉/ 浸炭窒化炉専用ガス分析計 FA-5000/5200シリーズ
ガス浸炭炉、ガス浸炭窒化炉内の浸炭処理工程において、炉内雰囲気のCPと相関のある、二酸化炭素(CO2)、一酸化炭素(CO)、メタン(CH4)、アンモニア(NH3)を連続測定する装置です。
ポータブルガス計測計
各種プロセスの一時的な測定・評価など、ポータブルガス分析計はさまざまなシーンでの計測ニーズにお応えします。HORIBAのポータブルガス分析計は、ポータブルでありながら常設型と同程度の性能を持ち、3~5日間などの連続測定も可能です。機動性と高精度を兼ね備えた分析計として使用できます。
その他の用途
マルチガス分析計 VA-5000/VA-5000WM シリーズ
環境問題から新エネルギー開発支援まで、時代のニーズに幅広く対応する分析計です。コンパクト設計により、1台で最大4成分の測定が可能です。