半導体製造プロセス

HORIBAは、1995年に薬液濃度モニタを市場へ提供して以来、独自技術により、多彩なウェットプロセス用の分析装置を開発してきました。そして、薬液濃度モニタにおいては、世界トップシェアを確立するなど、常に時代をリードしています。HORIBAは、半導体デバイスの進化に追従した高精度測定と高い安定性を備えた計測器のラインアップで、最先端からレガシープロセスまで、液体計測におけるトータルソリューションサプライヤーとしてお客様のご要望にお応えしています。   ※対応薬液リストはこちらより

非接触型薬液濃度モニタ

光ファイバ式薬液濃度モニタ

光ファイバ式熱リン酸濃度モニタ

光ファイバ式薬液濃度モニタ

光ファイバ式薬液濃度モニタ

薬液濃度モニタ

薬液濃度モニタ

微量フッ酸濃度モニタ

微量サンプリングpHモニタ

半導体用パネルマウント 48/96 シリーズ

  • 形式
  • 測定範囲
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  • HE-480C-GC0-9999μS/cm(温度補償前)
  • HE-960LC0-10,000μS/cm(温度補償前)
  • HE-960LF / FS-09F-1/20-10,000μS/cm(温度補償前)
    ※粘性の高いサンプル液(CMP Slurry等)に最適
  • HE-960HC0-1000mS/cm(温度補償前)

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