GD-Profiler 2™

用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界

GD-Profiler 2™ 可以快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括气体元素N、O、H和Cl,是薄膜和厚膜表征和工艺研究的理想工具。

GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试,广泛应用于高校以及工业研究实验室,其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。

事业部: 科学仪器
制造商: HORIBA France SAS

  • 射频发生器是 E 类标准,对稳定性和溅射坑形状都进行了优化以满足实时表面分析。

  • 射频源可以分析传统和非传统镀层和材料,对于易碎样品,还可以使用脉冲式同步采集优化测试。

  • 从 110nm到 800nm 同步全光谱覆盖,包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。

  • HORIBA 研发的离子刻蚀型全息光栅具有高的光通量和光谱分辨率,光学效率和灵敏度都表现优良。

  • HDD 探测器兼具检测速度和灵敏度。

  • 内置的微分干涉仪DIP可实时测量溅射坑深度和剥蚀速率。

  • 宽敞简洁的大样品仓易于装卸样品,操作简单。

  • QUANTUM™ 软件配置了Tabler 报告编写工具。

  • 激光中心定位装置(正在申请专利)可定位样品测试位置。

 HORIBA 的辉光放电光谱仪可以选配单色仪,实现n+1元素通道的同时也提高了设备的灵活性。

 

  • 辉光源结合超快速、高分辨的同步光学器件,可对导体、非导体和复合材料进行快速元素深度剖析。

  • 适用于薄膜和厚膜——从纳米到数百微米,且具有纳米级深度分辨率。

  • 典型应用领域包括光伏、冶金、LED 制造、腐蚀研究、有机和微电子、材料研发、沉积工艺优化、PVD、CVD、等离子涂层、汽车、锂电池等。

  • 不需要超高真空

  • 使用高动态探测器可以测量所有感兴趣的元素(包括 H、D、O、Li、Na、C、N 等)。

  • 可选附件单色仪配备的也是高动态探测器,可在image模式下做全谱扫描,极大的增加了设备的灵活性。

  • 脉冲式射频源,可选择在常规射频模式和脉冲式射频模式下工作,且可全自动匹配。

  • 辉光源采用差速双泵真空系统,可为SEM制备样品。

  • 内置等离子清洗功能。

  • 超快速溅射模式UFS可快速分析聚合物和有机材料。

  • 内置的微分干涉仪DIP,可直接在线测定深度。

  • 用于异形样品测试的各种铜阳极和附件。

  • Windows 10 软件 – 为远程安装提供多个副本

GD-OES和拉曼光谱对质子交换膜燃料电池双极板的分析
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双极板是质子交换膜燃料电池的关键部件,它主要作用是传输燃料气体和空气并导电。人们开发了各种材料和表面处理来提升它的性能。本文利用辉光放电光谱仪(GD-OES)和拉曼光谱仪对一辆商用燃料电池车的双极板进行了逆向工程研究。分析表明,在钛基板上有一层非晶态碳涂层。
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凭借20% 光电转换效率,混合钙钛矿太阳能电池被认为是下一代光伏的新星。HORIBA Scientific 拥有多种分析设备,因此可以使用不同的技术来深入了解这类材料的光电特性和机制。 在本应用中,我们利用椭偏、稳态和时间分辨荧光以及辉光放电光谱来研究沉积在旋涂 PEDOT:PSS 上的 CH3NH3PbI3 薄膜,并且讨论了材料暴露在空气中的影响
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脉冲式射频GD-OES的超快元素深度分析能力,常用于研究薄膜和厚膜。由于使用了脉冲射频源和高分辨率光谱仪,GD Profiler 2具有出色的深度分辨率,可以快速评估涂层质量。在本应用中我们剖析用作固体润滑剂的 MoS_2/Pb 复合多层样品。对此类样品的分析表明:GD Profiler 2在研究纳米级厚度的复合涂层时具有出色的性能。
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脉冲式射频GD-OES可以用于研究不同的电镀样品。光斑尺寸的灵活性、脉冲射频源以及微分干涉仪的引入使射频GD-OES 成为电镀行业的关键技术。
手机贴膜是什么材料?拉曼和 UFS-GD-OES 共同表征聚合物保护层的深度信息
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脉冲式射频GD-OES与UFS相结合,可提供聚合物手机贴膜的超快速元素深度剖析。将GD-OES与拉曼光谱 z轴 扫描相结合,可以获得智能手机贴膜制造的重要信息。
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利用脉冲式射频GD-OES可快速实现对塑料薄膜制造过程的优化和跟踪。GD Profiler2通过快速检测缺陷和污染物的存在,比较不同批次的产品,成为优化和跟踪制造过程的关键工具。此外,结合UFS模式被证实是一种灵活的分析有机和混合材料的技术,由此开辟了许多新的应用领域。
脉冲式射频 GD-OES 对有机和有机/无机多层复合材料深度剖析
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文中展示了脉冲式射频 GD-OES 分析聚合物层和有机/无机复合薄膜的实例,说明了GD-OES在此应用领域的可行性。由于采用了脉冲式射频源和专利超快速溅射UFS,使GD-OES在先进有机多层材料的多维表征方便发挥除了优势。GD-OES分析速度快,易于操作,测试区域大,可以观测所有元素,对于此类研究非常有利。
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脉冲式射频 GD-OES 是磁控溅射沉积的理想配套分析工具。磁控溅射是等离子气相沉积的一种,PVD镀膜机的真空室充满惰性气体(例如氩气),通过施加高电压(RF、HIPIMS 等)产生辉光放电,离子加速到目标表面和等离子涂层,氩离子溅射靶材表面材料,从而在衬底上形成膜层。
射频GD-OES 测定氢和氘
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射频GD-OES 因对薄膜和厚膜的超快元素深度分布而闻名,可以测量所有元素,包括氢 (H),这在许多应用领域都很重要 ,比如用于腐蚀研究、光伏、冶金、储氢材料的开发以及所有聚合物涂层研究等。H 最敏感的发射线位于VUV 范围内的121,567 nm。
脉冲式射频 GD-OES表征锂电池电极的特点和优势。
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锂电池是一种可充电电池,通过锂离子在阳极和阴极之间迁移,产生电流。无论您是研究新电极、涂层行为、充电和放电过程、过程控制,还是对锂电池进行性能比较研究,脉冲式射频GD-OES都是有价值的测试工具。
脉冲式射频GD-OES分析含有金属和金属氧化物纳米颗粒的薄膜
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HORIBA Scientific 是法国研究项目的合作伙伴,在同一个腔室中将纳米粒子喷雾耦合到 PVD 生长层上。许多关于这类新材料的研究都使用脉冲式射频 GD-OES 来分析颗粒的深度分布和复合层的厚度。

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