Design Method of PID Compensator by Internal Model Control
熱式流量センサを用いたマスフローコントローラ（MFC）は，半導体産業におけるプロセスガスの流れを制御するために広く受け入れられている。新しい半導体製造技術は，スループットや歩留まりを向上させる為に，プロセスガスの高速な流量応答と応答再現性を向上する事がMFCに求められる。流量応答の高速化を実現し、かつMFCの製造時に一定の応答性を維持する為に，MFCの制御系設計が重要となる。本稿では，内部モデル制御を用いた制御系の設計手法を提案し，実験結果にもとづき、提案手法の有用性を示す。
Mass Flow Controllers (MFC) using thermal flow sensors are widely accepted to control process gas flow in the semiconductor industry. New semiconductor fabrication techniques require faster response of process gas as well as improved response repeatability to reduce manufacturing costs and improve yield. In order to achieve fast response and maintain a constant performance of response among MFC products in a production, MFC controller design is critical. This paper proposes a control design method using Internal Model Control. Experimental results show the effectiveness of the proposed method.