- 高効率気液混合式気化器 -
MV-2000 Series - High Efficiency Mixed Injection -
近年の半導体製造プロセスは、デバイス構造の微細化のみならず材料の新規開発による対応や生産性向上を目指し、450 mmウエハへの大口径化に向けての検討が進んでいる。これらの動向に伴い、半導体製造に使用される液体材料においても多様化と大流量化が進んでいる。気化器への市場要求としては、大流量気化、低温度気化、使用するキャリアガス流量の低減などがある。本稿では、市場ニーズに応えるべく従来製品に比べて気化性能を大幅に向上した高効率気液混合式気化器「MV-2000」に関して紹介する。
The recent semiconductor manufacturing process carries out correspondence by miniaturization of the device structure and the new development of materials. In addition, aiming at productivity improvement, examination toward becoming it goes ahead the large diameter to a 450 mm wafer. With these trends, it goes to improvement that diversification and large flow rate in the liquid material used for semiconductor production. As a market demand to a vaporizer, there are big flow quantity vaporization, low temperature vaporization, reduction of the carrier gas flow rate to use. This report introduce about high efficiency mixed injection "MV-2000" that largely improved vaporization performance in comparison with a product conventionally in order to meet market needs.