Implement New Flow Standard Technology to The Products
(*1)株式会社 堀場エステック 標準技術推進室
副室長
(*2)株式会社 堀場エステック 標準技術推進室
半導体デバイスの微細化，高集積化に伴い，ガス流量・液体材料の供給量に対する高精度化や信頼性向上への要求が高まりつつあり，流量計測・制御機器であるマスフローコントローラの高精度化，信頼性向上が必要である。京都福知山テクノロジーセンターでは，ガス流量の標準技術を確立するために，一次流量標準器の自社開発を行いISO/IEC 17025認定を取得した。そして一次流量標準器による測定とプロセスガス流量測定法との整合を進め，二次流量標準器の開発を進めている。本稿ではReadoutNo.47にて報告した流量標準技術の確立に関してのその後について紹介する。
Higher accuracy and reliability for gas flow and liquid material supply are requestedwith the miniaturization and high integration of leading edgesemiconductor device. To meet these requirements, at Kyoto Fukuchiyamatechnology center, we developed a primary flow standard equipment, andobtained the ISO/IEC 17025 accreditation. Now, we are minimalizing thedeference between the calibration results against the primary flow standard andthe calibration results using process gas flow measurement method. And we aredeveloping secondary flow standard devices. In this issue, we introduce thesubsequent status about our flow standard technology reported in ReadoutNo.47.
