特集：2018 堀場雅夫賞 半導体製造プロセスにおける先端分析・計測技術
今年15周年を迎える堀場雅夫賞を特集しました。
半導体製造における未来のプラズマ・プロセスを目指す受賞者の研究を紹介します。
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巻頭言
- 堀場雅夫賞15周年にあたり
堀場 厚
総説
- 堀場エステックと半導体プロセス
河野 武志
2018 堀場雅夫賞
2018 堀場雅夫賞受賞者論文
- レーザー干渉計によるプラズマ電子密度計測の高速・高精度化
占部 継一郎 - 高精度半導体プラズマプロセスのための基板温度計測システムの開発
堤 隆嘉 - 半導体プラズマプロセス中の薄膜材料の欠陥検出
布村 正太 - イオンの速度分布関数による非侵襲的プラズマ特性解析
ツァンコ ヴァスコフ ツァンコフ
2018 堀場雅夫賞審査委員特別寄稿
- ハイブリッド計測の薦め： 微細トランジスタ内部応力分布のラマン散乱測定
金山 敏彦 - 制約条件下のSiO2薄膜に対する，希釈フッ化水素酸による湿式エッチングのシミュレーション
ライアン オコネル(*1)， スリニ ラガヴァン(*2)（海外審査委員） - プロセスプラズマにおける計測・モニタリング
白谷 正治 - 原子オーダーで平坦なシリコン表面とその上に形成されたMOSデバイスの特性
寺本 章伸 - 極端紫外線リソグラフィー技術の現状および課題，並びに今後の展望
渡邊 健夫
堀場雅夫賞（2004 ～ 2018）
一般論文
- 流量標準技術の製品への適用
磯部 泰弘(*1)， 奥山 隆弘(*2) - 圧力式マスフローコントロールモジュール CRITERION D507シリーズ
長井 健太郎 - 非分散赤外吸収分光によるCp2Mgガス濃度のリアルタイム測定
林 大介 - HORIBA World-Wide Network
表紙写真
写真家：松井秀雄氏（二科会写真部 会員）
富士山頂の姿が左右対称形に美しく見える林道で夜明けを待っていました。ほのかに明るくなった東の空が赤く染まり，明るい未来を予告しているようでした。
