－パーティクルリムーバー RP-1－
半導体デバイス製造現場では，レティクルのペリクル膜およびガラス面上の異物除去処理は，エアブローまたは粘着剤などを用いて手動で行われることが多い。このとき，ペリクル膜を汚損する問題が発生する場合がある。このような人為的なミスによるペリクル膜の汚損リスクを低下させ，レティクルを清浄な状態で長期に維持するため，ペリクル膜およびガラス面上の異物除去を自動で行う装置パーティクルリムーバーRP-1を開発した。今回，標準サンプルを考案したことによって，除去率の定量化と再現実験が可能となり装置の性能保証を実現した。さらに，標準粒子付着後の除去率経時変化についても考察を加える。
In manufacturing semiconductor devices, removing particles on a pellicle and a glass surface of a reticle has been frequently done by manual air blow or by adhesive substance. In this case, pellicles can be contaminated. To reduce the risk of causing such errors and keep reticles clean over the long term, we developed the Particle Remover RP-1 that automatically removes particles on a pellicle and a glass surface. This time, developing the standard sample allows to measure removal rate and repeat test, which assure performance of RP-1.Moreover, time dependency of the removal rate after attaching particles is reported.