－有害化学物質測定技術の開発－
X線分析顕微鏡の技術は，中国における有害化学物質管理のニーズに対応することで多様な進展を見た。新たな機能や技術には，プリント基板に部品を実装した状態で鉛はんだの混入を一目で確認する視覚化アプリケーション。さらにシリコンドリフト検出器（SDD）を採用し，その高計数率特性に合せて最適な1次X線フィルタを選択して，50 mm角の領域の鉛フリーハンダ中の鉛含有1000 ppmを，30分でマッピングし検出する迅速測定などである。また，測定対象の微細化に合わせて，400 μmの有害元素測定用のX線ビームが開発された。ハロゲン規制に対しては，最適な1次X線フィルタとX線透過部の真空排気により，ポリエチレン中の塩素の検出下限は1.2 mmのX線照射条件において，約100 ppm（200秒測定）となり，ハロゲンフリー規格の確認に使用できるものとなった。
Technologies of the x-ray analytical microscope have variously developed by dealing with the needs of the hazardous substances management in China. By the application of visualization, lead solders can be checked at a glance, in the condition that parts are mounted on the printed circuit board. Lead 1000 ppm in lead free solder is detected with mapping 50 mm square in 30 minutes, by selecting the primary X-ray filter which is optimal for the high count rate characteristics of the Silicon Drift detector (SDD). In addition adjusting to miniaturization of measuring objects, the X-ray beam of 400 micrometer was developed. For halogen regulation, depending on the optimum primary X-ray filter and the vacuum of the X-ray pass section, the detection lower limit of Chlorine in the polyethylene became approximately 100 ppm (200 second measurement) in 1.2 mm X-ray beam conditions, became something which can be used for the verification of halogen free standard.