産総研コンソーシアムであるミニマルファブに対応した膜厚検査装置を作成した。光の反射干渉方式を採用し分光反射率測定を行う専用の光学系を設計した。本装置は特にISO Class3の局所クリーン化技術及び計測光源の経時的な光量変化に対して定期的な自動補正を行うなど全自動インライン計測に要求される機能を有している。またSi上の熱酸化膜を計測した場合50～1000 nmの範囲では±2 nm以内の膜厚計測精度を得ることができた。レジスト1層，およびSOI 3層構造を測定した例では，エリプソ膜厚測定装置と1％以内でよい一致を示している。