特集論文：吸収分光法を用いた工業プロセス用多成分薬液濃度モニタとその応用事例

紫外（UV）／近赤外（NIR）の吸収分光法を使用した薬液濃度モニタCSシリーズは，In-line, Real-timeで測定可能な特長を生かし，半導体製造ラインのウェットプロセスにおいてプロセス管理に広く用いられている。測定対象は半導体洗浄で一般的なアンモニア-過酸化水素の混合液などから，エッチングの副生成物や液中金属イオンも含めて5成分以上の多成分系，個体粒子を含むCMPスラリーなど幅広い。本稿ではその具体的応用事例について紹介する。