マスフローコントローラ（MFC）は半導体市場の拡大と微細化に伴い進化を遂げている。2000年代，顧客の在庫削減の要求から1台のMFCでガス種や流量レンジを変更できるマルチガス・マルチレンジ機能（MR/MG）を有したMFCが開発され標準となった。2010年代にはガス供給ラインのコスト削減要求から供給側の圧力計と圧力レギュレータの機能を有したプレッシャーインセンシティブMFC（PI-MFC）が半導体プロセス市場で標準となっている。本稿ではさらなる半導体デバイスの微細化や立体構造化に伴うガス供給系への要求から次世代のMFCの開発について述べる。