半導体プロセスの微細化はシングルナノと呼ばれる領域に入り，ALD（Atomic layer deposition），ALE（Atomic layer etching）といったプロセスでは原子層レベルの成膜性能やエッチング性能が議論されています。これらの厳しいプロセス要求に答えるべく，堀場エステックではMFC(マスフローコントローラ)で培った経験をグローバルに活かして，お客様に付加価値を提供できるソリューションプロバイダーとして日々努力してまいります。
半導体プロセスの微細化はシングルナノと呼ばれる領域に入り，ALD（Atomic layer deposition），ALE（Atomic layer etching）といったプロセスでは原子層レベルの成膜性能やエッチング性能が議論されています。これらの厳しいプロセス要求に答えるべく，堀場エステックではMFC(マスフローコントローラ)で培った経験をグローバルに活かして，お客様に付加価値を提供できるソリューションプロバイダーとして日々努力してまいります。