特集：半導体プロセスアプリケーション
最先端の半導体製造プロセスの要求に応えるために，より高い感度と信頼性がセンシング技術に求められています。今号では半導体プロセスにフォーカスし，HORIBAエステックをはじめとするHORIBAグループの最新開発状況とアプリケーションを報告します。
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巻頭言
- HORIBA DNAと流体計測制御技術
小石 秀之
総説
- HORIBAと半導体プロセス
臼井 誠次 - 堀場エステックと半導体プロセス
河野 武志
特別寄稿
- 半導体製造技術の最新動向と計測制御技術
榎並 弘充
特集論文
- 流量標準技術確立の取組み
磯部 泰弘 - 圧力式マスフローコントロールモジュールCRITERION D507シリーズ
長井 健太郎 - 超微細半導体製造プロセスに向けた熱式マスフローコントローラの開発
瀧尻 興太郎、岡野 浩之、家城 篤史 - 次世代リソグラフィ技術に応用するブロックコポリマーの重合技術
川口 幸男 - 非分散赤外吸収分光によるCp2Mgガス濃度のリアルタイム測定
林 大介 - ミニマルファブ対応膜厚検査装置
西里 洋、飯田 裕、松田 賢昭、原 史朗 - 塩素系ドライエッチングプロセスへの残留ガス分析計（RGA）適用の効果
松濱 誠 - 吸収分光法を用いた工業プロセス用多成分薬液濃度モニタとその応用事例
中井 陽子 - カーボン電極を用いた電気伝導率計と濃度計への応用
鈴木 理一郎 - 半導体薬液用溶存酸素計（HD-960L）
井上 健太郎
新製品紹介
- 静電容量型真空計の開発
岸田 創太郎 - 超薄型マスフローコントローラの開発
長澤 政幸
一般論文
- 標準物質校正システムを用いた国際単位系にトレーサブルな有機混合標準物質の迅速な供給方法の確立と応用
佐々木 智啓、渡邉 卓朗、井原 俊英、芳村 智孝、鳴上 翔士 - 「ほんまもん」の経験価値を提供するプロダクトデザインを目指して
米澤 俵介
表紙写真
写真家：松井秀雄氏（二科会写真部 会員）
早朝，霧が流れる棚田を訪れました。最初は余りに霧が多くて何も見えなかったのですが，しばらくすると徐々に霧が薄れて棚田と木立がうっすらと見えてきました。その時，まるで天の啓示のように一つの棚田から光の逆噴射が始まりました。写真の神様からご褒美を貰った気分になりました。
