*株式会社堀場製作所
光散乱を利用したレティクル／マスク異物検査装置では、異物からの散乱光（異物光）とパターンからの散乱／回折光（パターン光）を弁別することが最も重要な技術要素である。PDシリーズでは、主として散乱光の偏光特性を利用し弁別を行ってきた。初期の装置では光学系の配置と偏光板によるパターン光の消光を利用し、次のシリーズではパターン光を消光する検出器と異物光を消光する検出器の信号強度比を利用していた。更に最近の機種では、パターン光と異物光の信号形状に着目した信号処理を行っている。最新のPR-PD3ではこれまでの弁別方法の長所を網羅する弁別方法をとり、より多くのパターンに対応できる信号処理方法としている。