*株式会社堀場製作所
半導体デバイスはDRAMを始め目覚ましい技術発展を遂げているが、その技術発展には、新規薄膜材料の開発、薄膜化、多層化が不可欠となっている。またその生産ラインでは、薄膜の情報を正確に測定することが生産性向上の重要な要素として多くの生産工程の中に薄膜計測の工程が組み込まれている。本稿では半導体薄膜の膜厚、屈折率、消衰係数などの光学定数を全自動で測定する全自動超薄膜計測システムUT-300 について説明する。特に薄膜計測への要求として微小エリア内での正確な測定があげられるが、従来のUT-300の光学系を改良し微小エリアの測定可能なUT-300Hを中心に紹介する。