近赤外線吸収法を用いた半導体洗浄プロセス用薬液濃度モニタ CS-200シリーズ

*株式会社堀場製作所

水の吸収が少ない近赤外光を用いて、半導体プロセスにおけるウエハ洗浄用の薬液濃度モニタを開発製品化した。このモニタの特長は、対象とするアンモニア過酸化水素水溶液(SC-1)を高温度のまま高精度で連続測定し元の洗浄槽に還流できる点にある。そのため、空気参照分光方式と温度補償形多変量解析法を併用して、数値計算のみで温度依存性のない濃度測定が可能になった。ここでは新しい概念を得るに至った技術的背景を含めて本装置を説明する。