半導体プロセスにおけるガス濃度モニタ

西村克美* | |   28

*株式会社堀場製作所

半導体のドライプロセスにおけるガス濃度モニタの重要性は年々高まっておりさまざまな用途に使用されている。チャンバからの排気ガスの計測はもとより、供給ガス計測、チャンバ内計測も注目されてきている。またクリーンルーム内の労働者の安全や健康維持のための環境監視や、プロセスを妨害する成分の監視にもモニタが必要となっている。本稿ではHORIBAグループが提供するFTIR・NDIRガス分析計や、クリーンルーム内雰囲気ガスモニタなど用途に応じたガス濃度モニタのソリューションを実例と共に紹介する。