特集：半導体ドライプロセス ジョバンイボンの製品と技術
半導体ドライプロセスでは,光や風（流量・圧力）,熱と電気などを駆使して物質の量や特性を制御して高度で安定なプロセスを作り出しています。HORIBAグループは,これらを計測・制御することでプロセスの質を高め,高度化・安定化に貢献していきます。今号では,半導体ドライプロセスに使われるHORIBAグループの製品と技術,更に前号に続けて分光技術をベースとするジョバンイボンの製品と技術を紹介します。
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巻頭言
- 半導体プロセスにおける計測と制御
原 清明
総説
特集論文
- マルチガス、マルチレンジ対応マスフローコントローラSEC-Z500シリーズ
西川正巳 - 超小型残留ガス分析計PressureMaster RGAシリーズ
池田 亨 - 半導体プロセスにおけるガス濃度モニタ
西村克美 - 静電容量型ダイアフラム真空計VGシリーズ
安河内 悟
製品紹介
特集寄稿
- ナノ応力顕微鏡の開発-Ⅰ -高波長分解能カソードルミネッセンス分光法を用いた応力解析-
Giuseppe Pezzotti・西方健太郎・柿沼 繁
総説
特集論文
- 薄膜事業部の製品と技術
Ramdane Benferhat - トレンチ深さをリアルタイムにモニタする偏光カメラ
Pascal Amary・Denis Cattelan - 分光エリプソメータを用いた光学薄膜蒸着のリアルタイム制御
Bernard Drévillon・Pavel Bulkin - 分光機器事業部の製品と技術
Salvatore Atzeni - 分光測定用マルチチャンネル検出器とソフトウェアの開発
Raymond Pini - 可視及び近赤外領域における定常マルチチャンネル分光計測とその応用
Raymond Pini・Salvatore Atzeni - 蛍光分光事業部の製品と技術
Ray Kaminski - モジュール型蛍光分光測定装置SPEX Fluorolog-3
Stephen M. Cohen - 蛍光寿命マッピングシステムSPEX FluoroMap
Stephen M. Cohen・James Mattheis
