半導体プロセスの微細化に伴う高精度化の要求，低価格化に伴うワイドレンジ化に応えるべく，新たな方式を採用した圧力式マスフローコントロールモジュールを開発した。層流素子抵抗体の圧力損失が低圧・小流量時に大きくなる特性を利用して圧力から質量流量への変換時に流量誤差を変化させている。小流量測定時に圧力センサ出力を高く維持することができ，低流量域の流量精度向上とワイドレンジ化を実現した。素子の複雑な特性をデータ化し数値計算することで最小制御流量0.3%までの制御を実現し，これまでの2%に対して6倍以上のワイドレンジを実現している。圧力センサの高速応答性により供給圧の変動にも強く，次世代プロセスに要求されるすべての性能を有したマスフローモジュールとなる。内部容積を基準とし圧力と流量の関係を利用した診断機構も有している。