半導体プロセスにおける薬液濃度管理

廣藤裕一*1 大西照人*2 | |   13

*1松下電子工業株式会社、*2松下電器産業株式会社

半導体プロセスに使用されている薬液の濃度管理は、薬液の使用量を抑制することの他に多元の混合液による機能洗浄液を開発することを目的として化学反応機構を解明するために不可欠な技術となりつつある。薬液濃度の測定には最近になって種々の原理を利用した実用的な測定装置が市販されるようになり、従来から一般的に使用されている薬液のほとんどの濃度測定は可能になった。今後、多元系の混合液に関してもこれらの濃度測定装置の利用技術が進歩し、集積回路に新材料を組み込むための新たな洗浄液の開発にも寄与することが期待される。