Photomask Inventory Management and Recertification

*1Apex Lithography Services Inc.、*2HORIBA Instruments Inc.

フォトマスク工程で最も難しい作業の1つは、マスク/レチクルの洗浄とペリクル膜の製作である。ペリクル膜は大気中のパーティクルやコンタミネーションからは保護するが、使用中にペリクル内部に潜在欠陥が生じることがある。本稿では使用中に発生する欠陥の種類と原因、さらにフォトマスクの再保証用の検査設備と検査方法についても述べる。