半導体プロセスでは，多様化するデバイスに対して，微細化や多層化技術を駆使して生産が行われている。これらのプロセスでは多くの液体／固体材料が用いられており，効率よく安定的に気化供給できるシステムに対する重要性が増している。特に，現在でも幅広く利用されているバブリング方式による気化供給システムにおいて，発生した材料ガス濃度を計測・制御することが必要とされている。本稿では，バブリング方式による気化供給システムとガス濃度コントローラを組合せた，新しい液体／固体材料の気化供給システムについて実験結果とともに紹介する。
For the semiconductor manufacturing process that involves the liquid and solid precursors, a stable and reliable vapor delivery system is usually a critical portion to the success of the process. Moreover, it could offer the capability of monitor and control the vapor concentration for bubbling method, in addition to the vaporization. This paper introduces a new vapor concentration control (VCC) system that combines the bubbling vaporization technology and vapor concentration control capabilities to achieve an intelligent solution in utilizing liquid and solid precursors.