*株式会社 堀場アドバンスドテクノ
半導体製造におけるウェットプロセスでは，用途に応じて種々の薬液や大量の超純水が使用されている。半導体デバイスの歩留り向上のためにはそれらの薬液や超純水の管理が重要である。半導体デバイスの微細化や複雑化に伴う新たな処理プロセスや薬液の登場により，求められる管理指標はその時々で変化してきた。HORIBAグループでは，1980年代後半より，電気化学技術，光学技術等の基礎技術を応用したプロセスモニタを展開投入してきた。本稿ではそれらのウェットプロセス向けのモニタリング技術と応用事例について紹介する。