マスフローコントローラの技術動向とエステックの対応

*株式会社エステック

半導体デバイスの高密度化はますます進んでおり、現在製品化されている64M-DRAMのデザインル－ルはハ－フミクロン以下となっている。これらの超高集積デバイスの製造装置には、高信頼性・高スル－プット・低コストが要求されている。特に、ガス供給系のキ－デバイスであるマスフローコントローラへの要求は厳しい。本稿では技術動向と株式会社エステックの対応について述べる。